<small id="eewc6"><blockquote id="eewc6"></blockquote></small>
  • <bdo id="eewc6"><optgroup id="eewc6"></optgroup></bdo><small id="eewc6"></small>
  • <bdo id="eewc6"><nav id="eewc6"></nav></bdo>
  • <bdo id="eewc6"><nav id="eewc6"></nav></bdo>
  • 示例圖片二

    勻膠旋涂儀的勻膠過程包括以下步驟

    2021-08-05 11:06:04 華儀行(北京)科技有限公司 已讀

      勻膠旋涂儀是一個典型的勻膠過程,其中包括滴膠,高速旋轉以及干燥(溶劑揮發)幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。

      靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態滴膠尤其適用,不會產生針孔。

      滴膠之后,下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到要求的膜厚,這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分,轉速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小。快速旋轉的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定膠膜的厚度。

      一般來說,勻膠轉速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以需要給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達到平衡。

      勻膠旋涂儀在勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的階段開始,光刻膠就開始干燥(溶劑揮發)了。所以準確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中,光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內揮發掉了。在已經光刻有圖形的基片上勻膠,加速度對膠膜質量同樣起重要作用。在許多情況下,基片上已經由前面工序留下來的精細圖形。因此,在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。


    ?
    2020久久天天躁狠狠躁夜夜,无码免费的毛片基地,欧美精品videossex,中文字字幕在线一本通