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              CIF粉體等離子清洗機CPCP-F系列

                CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。
              1. 詳細信息

              CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

              等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理化學性質,在保持粉體原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。粉體材料表面改性是材料制備,新材料、新工藝和新產品開發的重要方法,提高了粉體材料的附加價值,擴大了粉體材料的應用領域。

              CIF推出CPCP-F系列粉體等離子清洗機主要通過內置帶攪拌功能的石英轉動樣品瓶進行粉體樣品處理,采用雙浮子流量計氣體輸送控制主要特點是專業、簡單、經濟實用處理均勻、快速高效、動態清洗,無死角無污染。

               

              技術參數

              型號

              CPCP-F

              CPCP-Fplus

              艙體尺寸

              D200XΦ155mm

              D200XΦ155mm

              艙體容積

              3.8L

              3.8L

              石英轉瓶尺寸

              Φ75xH120mm

              Φ75xH120mm

              轉瓶轉速

              1-15rpm/秒可調

              1-15rpm/秒可調

              射頻電源

              40KHz

              13.56MHz

              匹配器

              自動匹配

              自動匹配

              射頻功率

              10-300W可調

              10-150W可調

              氣體控制

              雙浮子流量計

              產品尺寸

              L425xW420xH465mm

              時間設定

              1-99分59秒

              氣體穩定時間

              1分鐘

              真空度

              100pa以內

              激發方式

              電容式


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